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派克漢尼汾新產品提升分析儀器的性能
  • 發布日期:2018-10-15      瀏覽次數:1071
    •   實驗管理者在控制運營成本的同時,也越來越注重效率和準確性,他們希望分析設備更靈敏小巧、更具成本效益。為此,OEM設計工程師在提高分析儀器性能的同時,還需考慮管理成本。從流體和氣體處理的角度來看, 優化閥門的尺寸、重量以及能效,既可滿足儀器的設計要求、提高儀器的靈敏度并控制成本,還可確保更穩定優異的性能。
           派克漢尼汾新推出的微型比例閥——VSO LowPro GC,專為分析化學氣流應用而設計。分析儀器對流量控制、大允許泄漏率和清潔度有嚴苛的要求,VSO LowPro GC可提高下一代分析儀器的靈敏度、降低樣品干擾并增強信檢測能力。

      優化設計
      VSO LowPro GC兼可靠性和可制造性的設計理念。有限元分析(FEA)仿真工具可用于減少閥門內部組件的數量、尺寸和重量 ,以實現更持久的可重復生產和更小、更輕的設計,同時可對動態、非線性機械分析、流體動力學分析和電磁分析進行優化,尺寸僅為市場同類比例閥的一半。

      低功耗
      使用動態機械分析軟件可增強比例彈簧的機械結構,以提供對抗流體流動和螺線管力所需的小阻力。這使得閥門具有極其平滑的線性流量控制,同時降低內部組件工作所需的總功率。  

      快速響應
      利用有限元分析仿真軟件對磁路進行細化,減小間隙,可使磁場強度均勻地分布在移動部件周圍。這一優化與元件尺寸減小相結合,可實現性能更好、響應速度更快的電磁閥設計。改進后,更快速的響應讓閥組件的流量更加一致,閥門可及時控制電流的頻繁變化,從而減少流量過沖 。 

      單閥解決方案
      VSO LowPro GC比例閥有0.007” (0.18mm) 和0.011”(0.28mm)兩種通徑以滿足單閥解決方案的需求。它可與多種氣體類型一起使用,具有防泄漏功能,流量與電流控制滿足實驗GC應用所需的大流量和壓力要求。這種單閥解決方案既可用于控制大分子、更高流速的應用,也可用于控制小分子、低流速的應用。一個閥門,輕松滿足多種需求!

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